中国科学院近代物理研究所2021年3至12月政府采购意向-纳秒高功率激光器详细情况

A02100309激光仪器

纳秒高功率激光器，通过产生极短的高功率激光脉冲，对样品表面进行热处理。其优点 是：该设备产生的激光脉冲在照射到物体表面后，将能量沉积在物体的浅表层，对于样品深 层基本无影响。在射频超导加速器研制中，射频铜腔内壁镀超导材料薄膜（几个μm）是射频超导技术的新研究方向。超导材料镀膜铜腔的应用旨在降低超导腔成本，改善射频超导加速器热稳定性和机械稳定性等。由于超导材料薄膜所需退火温度高，铜基底相对于超导薄膜不耐热，且射频超导腔结构复杂，对原位退火工艺提出了严峻挑战。纳秒高功率脉冲激光是解决这一问题的有效手段。通过控制激光脉冲宽度及占空比，让激光能量的沉积局限于表面薄膜深度，从而在保护铜基底的同时满足膜层的高温退火需求。纳秒高功率激光器既可用于镀膜内腔表面浅层退火工艺研究、超导薄膜材料改性研究，还可用于核燃料元件小球热处理等重要场景中。 纳秒高功率激光器采购数量1套，主要技术指标如下： （1）类型：脉冲光纤激光器；（2）最大单脉冲能量：不低于25 mJ； （3）最大平均功率：不低于1 kW；（4）功率输出：10%功率至满功率不少于4挡可调。 （5）脉冲宽度：处于10~200 ns范围内；

（6）输出端配备可编程机械臂为基础的可实现二维扫描照射功能的扫描头工装。 预计采购时间：2021年5月