华东师范大学2021年4至12月政府采购意向-高精度紫外光刻系统详细情况

A021099其他仪器仪表

在微纳器件加工过程中，实现高精度图形化制备的前提就是拥有一台高性能的光刻机，用以制备高精度的光刻胶掩膜层。紫外曝光机是半导体微纳电子器件加工中最基本也是最重要的一种，是研究亚微米尺度器件的理想工具。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。采用紫外光源，可制作亚微米(最小线宽0.5 ?m)的图形。是微纳器件加工制作工艺中的重要设备，用于各种微器件的制作和低维人工结构的形成，如制作微电子器件，光电子器件，生物传感器，微机电系统，超导电子学器件，磁电子学器件等器件结构，是微纳加工中最关键的设备之一。