华东师范大学2021年4至12月政府采购意向-激光直写系统详细情况

A021099其他仪器仪表

激光直写设备利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后便在抗蚀层表面形成要求的浮雕轮廓，分辨率优于0.3um，性能优异无掩模。它具有自己的独特优势不需要针对设定的器件结构制备专用的金属掩模，就可以基于软件绘制实现任意图形的曝光，大幅度的缩短了加工周期。完全满足微加工服务平台薄膜与器件的微米尺寸特殊图形的加工需求，可广泛应用于多个领域。将解决目前华东师范大学内多个实验室等对于多样化器件结构加工手段不足的问题，大幅提升电子信息、物理、材料、化学、生物医学等各个领域研究人员在微纳图形的加工能力，同时还将为校外高校和科研院所提供微结构加工服务，提高我校在微加工方面的实力。