华东师范大学2021年4至12月政府采购意向-多靶金属磁控溅射仪详细情况

A021099其他仪器仪表

在微纳器件加工中，金属电极的制备是必不可少的工序，尤其是高质量、无交叉污染的、工艺参数稳定的膜层制备。磁控溅射由于可用于纳米级单层及多层功能膜、 硬质膜、 金属膜、 半导体膜、 介质膜等新型薄膜材料的制备。制膜过程中可以对薄膜厚度和质量进行精确的控制；沉积速度快、基材温升低、对膜层的损伤小；对于大部分材料，只要能制成耙材，就可以实现溅射，操作简便；溅射所获得的薄膜与基片结合较好；溅射所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；溅射工艺可重复性好，可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜，是微纳加工广泛采用的一种镀膜方法。