zycgr210713032022年5至12月政府采购意向-光刻设备与涂胶显影设备详细情况

A020699其他电气设备

本次采购的12英寸先进制程扫描式光刻设备，使用氟化氪准分子激光器（KrF excimer laser）产生波长为248 nm的深紫外光作为曝光光源，实现最小极限尺寸为110 nm的硅光芯片光刻工艺。基于KrF excimer laser的扫描式光刻设备将用于完成硅光芯片加工制造的光刻工艺，可以使用较厚的光刻胶。本次采购的12英寸全自动量产型先进制程扫描式光刻设备将需要与本次采购的12英寸全自动量产型涂胶显影设备联机使用，共同完成光刻机涂布曝光显影等关键的硅光芯片制程工艺。